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半導體常用縮寫的問題，我們搜遍了碩博士論文和台灣出版的書籍，推薦賴柏洲 寫的 光纖通信與網路技術(第四版) 和蔡俊良 的 乙級數位電子技能檢定學科題庫整理與分析(2021最新版)都 可以從中找到所需的評價。
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這兩本書分別來自全華圖書 和全華圖書所出版 。
國立中山大學 化學系研究所 曾韋龍所指導 楊鈞棊的 (1)設計具有熱致變色性質之螢光高分子奈米顆粒於全彩圖形的應用 (2)設計具有壓力變色性質之螢光共軛高分子奈米顆粒於防偽造應用 （2019），提出半導體常用縮寫關鍵因素是什麼，來自於防偽造、安全油墨、半導體共軛高分子、熱致變色、螢光、壓力變色。
而第二篇論文國立臺灣科技大學 電子工程系 徐世祥所指導 劉正舜的 矽線波導光濾波元件之設計與製程探討 （2018），提出因為有 矽線波導、陣列波導光柵、階梯光柵、分波多工、空間域光學同調斷層掃描的重點而找出了 半導體常用縮寫的解答。
最後網站積體電路- 維基百科，自由的百科全書則補充：積體電路（英語：integrated circuit，縮寫作IC；德語：integrierter ... 前述將電路製造在半導體晶片表面上的積體電路，又稱薄膜（thin-film）積體電路。
光纖通信與網路技術(第四版)
為了解決半導體常用縮寫 的問題，作者賴柏洲 這樣論述：
本書內容採簡明扼要、循序解說的方式，並以圖表說明讓讀者建立良好的光纖通信系統、元件及網路基礎，其內容包括光纖通信概論、光纜、光源、光電檢光器、光放大器、光發射、接收機、光纖寬頻網路通信技術、全光網路等，涵蓋範圍廣，讀完此書可了解光纖通信與網路技術的發展趨勢、應用與設計架構，值得您細細品嚐。本書適合大專資訊、電子、電機科系「光纖通信」課程使用。 本書特色 1.市面上還未有將光纖通信與網路技術結合編著的書籍，您不能錯過。 2.內容新穎、實用，採循序解說的方式，讓讀者建立良好基礎。
(1)設計具有熱致變色性質之螢光高分子奈米顆粒於全彩圖形的應用 (2)設計具有壓力變色性質之螢光共軛高分子奈米顆粒於防偽造應用
為了解決半導體常用縮寫 的問題，作者楊鈞棊 這樣論述：
在現今社會中，隨著科技的日新月異，許多不肖商人、罪犯開始利用新興技術複製經濟商品來換取不當利益，造成偽造、贗品等劣質商品快速的增加。而這些偽造的商品不論是在貨幣、商品、藥物、個人信譽等都造成經濟市場的混亂及損失。基於上述，如何開發出一種防偽造技術替經濟商品多一層防護就顯得日益重要。而螢光油墨在肉眼上是不可見的，通常需要以紫外光照射才能看見，使得螢光油墨防偽隱蔽性更好，防偽力度更強，也常常用在一般商標、紙鈔和包裝等。而共軛半導體高分子奈米粒子(簡稱Pdots)是非常具有潛力的螢光墨水，因其具有吸收截面係數和不錯的量子產率(quantum yield)、極佳的光穩定性、低的細胞毒性、適當的奈米顆
粒(小於墨水夾孔)、表面易修飾等特性，且在可見光不同波段的Pdots已被合成出來，可增加不同顏色的螢光達到防偽。 在第一篇論文中，設計出一個不需使用雙酚A的溫敏分子，將其酚基直接鍵結在溫敏分子上，以不同熔點的長碳鍊醇決定變色溫度，再以nanocapsule的方式將其包覆在核中，形成一個core-shell的結構。在殼層外再吸附具有螢光性質的Pdots，藉由能量轉換(FRET)的機制，達成整個系統在常溫有顏色無螢光；高溫無色有螢光，以雙顯色與螢光顯現達到複雜化防偽造的目的，並且應用在印表機和鋼筆上。 在第二篇論文中，希望合成出一個spiropyran分子，在其旁邊接上PMMA高分子使
其成為具有壓力變色的分子，且在spiropyran分子的indole接上具有螢光的共軛高分子，以能量轉換的方式達到雙顯色和螢光轉變的特性，並且應用在印表機上。
乙級數位電子技能檢定學科題庫整理與分析(2021最新版)
為了解決半導體常用縮寫 的問題，作者蔡俊良 這樣論述：
「技能檢定」在政府推行及鼓勵下已漸漸地落實在各行各業之中，尤其乙級檢定更是許多社會工作者及在學學生追求證照的目標。基於此，筆者整理「乙級數位電子學科題庫整理與分析」供讀者參考研讀，且為加強各篇重點之題型演練，特地於每篇重點之後增列「綜合演練」，使讀者能更熟悉章節之重點練習。 本書特色 1.內容詳盡、完整呈現數位電子考題範圍與精華。 2.解題精闢易，讓讀者快速掌握重點循序研讀。 3.參考架構全方位，實為有志應考者必備教戰手冊。
矽線波導光濾波元件之設計與製程探討
為了解決半導體常用縮寫 的問題，作者劉正舜 這樣論述：
陣列波導光柵（AWG）與階梯光柵（Echelle Grating）通常用於分波多工（WDM）系統光訊號的多工及解多工處理，兩種元件運作原理都基於光陣列的干涉，但路徑之間延遲是以不同方式實現的。本論文首先介紹這兩種光濾波元件基本原理與模擬分析方法，接著特別討論AWG於生醫領域之空間域光學同調斷層掃描（SD-OCT）系統之應用。詳細展示元件設計優化過程，並進一步結合多模干涉儀（MMI）作為輸入端口，以得到平頂帶寬的輸出頻譜。經由商業模擬軟體Photon Design中之EPIPPROP與FIMMPROP軟體進行模擬，分別設計密波長多工（DWDM）及粗波長多工（CWDM）功能的光元件。設計之元件除
了於比利時微電子研究中心（IMEC）進行代工外，更於台灣半導體研究中心（TSRI）進行製程的研發。我們也將探討使用E-beam電子束直寫系統與I-line光學步進機，來製作矽線波導為主之光元件，並使用乾氧製程改善波導側壁粗糙度來降低傳輸損耗。本論文成功使用I-line光學步進機製作出CWDM與DWDM功能之AWG元件，並量測出其於C-band波段下之通道間距分別為19 nm與0.75 nm。更進一步在改善波導側壁粗糙度後，量測出E-beam製程直波導於波長為1550 nm時，傳播損耗為2.93 dB/cm。